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MP-2金相試樣磨抛機
一、用途和特點:
在金相試樣制備過程中,試樣的磨、抛光是必不可少的工序,試樣經過磨抛後,可獲得光亮如鏡的表面。MP-2金相試樣磨抛機采用雙盤式設計,左盤為研磨盤,右盤為抛光盤,同時滿足了磨、抛光兩道工序的要求,可以兩人同時操作。殼體采用整體ABS吸塑,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點,并自帶冷卻裝置,可以在磨抛時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。适用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室,是金相試樣磨抛的極佳設備。
二、技術參數:
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研磨盤直徑:φ203mm(可定制φ230mm、φ250mm)轉速450r/min
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抛光盤直徑:φ203mm(可定制φ230mm、φ250mm)轉速600r/min
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輸入電壓:單相 220V 50Hz
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輸入功率:370W
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外形尺寸:730×765×320mm
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重 量:47Kg
三、裝 箱 單:
型号
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産品名稱
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單位
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數量
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MP-2
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金相試樣磨抛機
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台
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1
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産品附件
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單位
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數量
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備注
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磨抛盤
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個
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2
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已安裝在設備上
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擋水圈
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個
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2
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已安裝在設備上
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壓圈
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個
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2
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已安裝在設備上
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水砂紙
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張
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2
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Φ203mm
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抛光織物
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張
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2
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Φ203mm
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進水管
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根
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1
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Φ12
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出水管
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根
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1
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Φ32
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技術文件
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1.産品說明書1份 2.産品合格證1份
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- 在金相試樣制備過程中,試樣的磨、抛光是必不可少的工序,試樣經過磨抛後,可獲得光亮如鏡的表面。MP-2金相試樣磨抛機采用雙盤式設計,左盤為研磨盤,右盤為抛光盤,同時滿足了磨、抛光兩道工序的要求,可以兩人同時操作。殼體采用整體ABS吸塑,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點,并自帶冷卻裝置,可以在磨抛時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。适用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室,是金相試樣磨抛的極佳設備。
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适用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室,是金相試樣磨抛的極佳設備。